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南宁市(上林县、兴宁区、青秀区、邕宁区、江南区、隆安县、横州市、良庆区、宾阳县、马山县、西乡塘区、武鸣区)

内蒙古自治区

曲靖市(沾益区、师宗县、马龙区、宣威市、富源县、陆良县、会泽县、罗平县、麒麟区)

梅州市(大埔县、兴宁市、梅县区、丰顺县、五华县、梅江区、平远县、蕉岭县)  景德镇市(昌江区、乐平市、浮梁县、珠山区)

襄阳市(老河口市、枣阳市、樊城区、襄州区、南漳县、保康县、谷城县、宜城市、襄城区)

大兴安岭地区(漠河市、呼玛县、塔河县)

赤峰市(敖汉旗、巴林右旗、宁城县、阿鲁科尔沁旗、松山区、林西县、翁牛特旗、元宝山区、红山区、喀喇沁旗、克什克腾旗、巴林左旗)

和田地区(策勒县、和田县、于田县、和田市、墨玉县、洛浦县、皮山县、民丰县)  湘潭市(岳塘区、雨湖区、韶山市、湘乡市、湘潭县)

佳木斯市(向阳区、桦南县、抚远市、同江市、前进区、桦川县、郊区、东风区、汤原县、富锦市)

阳泉市(城区、郊区、盂县、平定县、矿区)

博尔塔拉蒙古自治州(温泉县、精河县、阿拉山口市、博乐市)

重庆市(万州区、潼南区、秀山土家族苗族自治县、江北区、巫溪县、武隆区、永川区、忠县、铜梁区、江津区、梁平区、璧山区、大足区、合川区、南岸区、石柱土家族自治县、南川区、涪陵区、丰都县、长寿区、垫江县、渝北区、大渡口区、奉节县、黔江区、巫山县、荣昌区、城口县、开州区、巴南区、九龙坡区、渝中区、北碚区、沙坪坝区、彭水苗族土家族自治县、云阳县、酉阳土家族苗族自治县、綦江区)

克拉玛依市(克拉玛依区、白碱滩区、乌尔禾区、独山子区)

阿勒泰地区(富蕴县、福海县、吉木乃县、青河县、哈巴河县、阿勒泰市、布尔津县)

益阳市(资阳区、南县、沅江市、安化县、桃江县、赫山区)

南通市(通州区、海门区、如东县、海安市、启东市、崇川区、如皋市)

永州市(宁远县、冷水滩区、东安县、道县、双牌县、江永县、新田县、蓝山县、祁阳市、零陵区、江华瑶族自治县)

忻州市(保德县、宁武县、原平市、定襄县、代县、偏关县、岢岚县、河曲县、神池县、五台县、繁峙县、五寨县、静乐县、忻府区)

七台河市(茄子河区、桃山区、新兴区、勃利县)

郑州市(中牟县、上街区、二七区、新郑市、中原区、荥阳市、巩义市、惠济区、登封市、管城回族区、金水区、新密市)

苏州市(姑苏区、昆山市、吴中区、常熟市、张家港市、太仓市、吴江区、虎丘区、相城区)

长春市(九台区、农安县、南关区、朝阳区、宽城区、二道区、公主岭市、德惠市、榆树市、绿园区、双阳区)

常州市(金坛区、溧阳市、武进区、天宁区、钟楼区、新北区)

安阳市(内黄县、龙安区、文峰区、北关区、殷都区、滑县、林州市、汤阴县、安阳县)

河池市(天峨县、环江毛南族自治县、大化瑶族自治县、都安瑶族自治县、金城江区、东兰县、南丹县、宜州区、凤山县、罗城仫佬族自治县、巴马瑶族自治县)

银川市(西夏区、永宁县、灵武市、兴庆区、贺兰县、金凤区)

聊城市(高唐县、临清市、东昌府区、茌平区、阳谷县、冠县、莘县、东阿县)

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济源市

徐州市(云龙区、沛县、睢宁县、邳州市、铜山区、新沂市、丰县、泉山区、贾汪区、鼓楼区)

湘西土家族苗族自治州(龙山县、凤凰县、保靖县、花垣县、古丈县、永顺县、泸溪县、吉首市)

滨州市(阳信县、惠民县、滨城区、博兴县、无棣县、沾化区、邹平市)  哈密市(伊吾县、巴里坤哈萨克自治县、伊州区)

来宾市(忻城县、合山市、兴宾区、象州县、金秀瑶族自治县、武宣县)

东莞市

白银市(靖远县、平川区、会宁县、白银区、景泰县)乌海市(乌达区、海勃湾区、海南区)

许昌市(襄城县、鄢陵县、建安区、禹州市、魏都区、长葛市)  中卫市(中宁县、沙坡头区、海原县)

珠海市(香洲区、金湾区、斗门区)

镇江市(丹阳市、句容市、润州区、京口区、扬中市、丹徒区)

平凉市(崇信县、泾川县、崆峒区、灵台县、庄浪县、静宁县、华亭市)铜仁市(石阡县、松桃苗族自治县、印江土家族苗族自治县、思南县、江口县、玉屏侗族自治县、沿河土家族自治县、德江县、碧江区、万山区)

鞍山市(海城市、铁西区、千山区、岫岩满族自治县、铁东区、立山区、台安县)

江门市(新会区、开平市、江海区、恩平市、鹤山市、台山市、蓬江区)

宿迁市(宿豫区、泗阳县、沭阳县、宿城区、泗洪县)

天水市(张家川回族自治县、武山县、清水县、甘谷县、秦安县、麦积区、秦州区)

晋中市(介休市、祁县、榆社县、昔阳县、左权县、太谷区、和顺县、寿阳县、榆次区、平遥县、灵石县)

岳阳市(岳阳楼区、华容县、云溪区、岳阳县、汨罗市、平江县、君山区、临湘市、湘阴县)

秦皇岛市(北戴河区、青龙满族自治县、海港区、抚宁区、卢龙县、山海关区、昌黎县)

新疆维吾尔自治区

周口市(郸城县、川汇区、太康县、扶沟县、商水县、项城市、沈丘县、鹿邑县、西华县、淮阳区)

迪庆藏族自治州(德钦县、维西傈僳族自治县、香格里拉市)

临汾市(蒲县、尧都区、襄汾县、浮山县、古县、大宁县、曲沃县、翼城县、吉县、安泽县、永和县、隰县、侯马市、汾西县、乡宁县、洪洞县、霍州市)

厦门市(湖里区、同安区、翔安区、思明区、海沧区、集美区)

宜昌市(点军区、伍家岗区、五峰土家族自治县、枝江市、夷陵区、当阳市、猇亭区、长阳土家族自治县、宜都市、远安县、西陵区、兴山县、秭归县)

昌都市(边坝县、卡若区、贡觉县、洛隆县、芒康县、察雅县、类乌齐县、丁青县、左贡县、江达县、八宿县)

眉山市(青神县、东坡区、丹棱县、洪雅县、仁寿县、彭山区)

贵阳市(开阳县、白云区、息烽县、乌当区、修文县、观山湖区、南明区、花溪区、云岩区、清镇市)

中国半导体设备产业动态频频，以中微公司和北方华创为代表的国内龙头企业纷纷展现强劲的增长势头和战略布局。中微公司通过大幅增资强化技术研发和市场拓展，巩固其在刻蚀设备领域的领先地位；北方华创则通过对外投资和股权收购，积极拓展业务版图，并在业绩上实现显著增长。

众所周知，中国正在加紧推进半导体的国产化进程，其中设备作为半导体产业的基石，其国产化水平决定着整个半导体产业链的自主可控程度。近期有预测称，到2025年中国大陆半导体设备整体国产化率有望达到50%，该消息引起了行业一众关注。究竟真实进展如何？

中微公司增资至40亿，增幅300%

4月21日，企查查显示，中微半导体（上海）有限公司宣布注册资本由10亿元人民币增至40亿元人民币，增幅达300%。通过增资，中微公司将进一步增强资金实力，加速技术研发和市场拓展，提升在全球半导体设备市场的竞争力。

中微公司2024年财报显示，公司实现营业收入90.65亿元，同比增长44.7%，其中刻蚀设备贡献超72亿元，同比增长54.7%，稳居国产刻蚀设备龙头。尽管净利润约16.16亿元，同比下滑9.5%，但扣非净利润约13.88亿元，同比增长16.5%。这一下滑主要受研发投入激增影响，2024年研发费用达24.5亿元，同比增长94.3%。公司创始人尹志尧表示，2024年人均销售超过400万元，达到设备产业国际先进水平。

从出货设备来看，刻蚀领域，该公司的CCP刻蚀设备2024年生产付运超过1200反应台，创历史新高，累计装机量超过4000反应台；薄膜沉积设备领域，LPCVD设备累计出货量已突破150个反应台，2024年获得约4.76亿元批量订单，ALD（原子层沉积）设备和其他关键薄膜沉积设备研发项目正在顺利推进，EPI（外延）设备已顺利进入客户端量产验证阶段。

量测设备领域，中微公司控股子公司超微半导体设备（上海）有限公司拟增资至1.6亿元，中微公司持股比例将降至47.2%，但仍保持控制权。据悉，超微公司重点开发电子束量检测设备，该设备是芯片制造和先进封装工艺中的关键设备，对我国发展新质生产力至关重要。

今年1月，中微公司计划在成都市高新区投资设立全资子公司中微半导体设备（成都）有限公司，建设研发及生产基地暨西南总部项目。项目总投资约30.5亿元，主要用于研发薄膜设备。该公司将作为中微公司的西南总部，建设包括研发中心、生产基地和配套设施，预计2025年开工，2027年投入生产。

北方华创：拟向全资子公司增资4亿元，并参与北京电控增资

4月18日，北方华创公告，公司拟以全资子公司北方华创创新投资(北京)有限公司作为出资平台，与北京电子控股有限责任公司（以下简称“北京电控”）各出资4亿元人民币，以非公开协议方式向北京电控控股子公司北京电控产业投资有限公司增资。

据悉，电控产投将主要通过基金和股权投资方式，围绕集成电路、人工智能、物联网等应用领域，投资布局发展潜力大、技术或产品好的标的企业。此次增资总额为8亿元，其中北方华创出资4亿元，北京电控出资4亿元。增资完成后，电控产投注册资本将增至18.57亿元，北方华创持股比例为17.6847%。

资料显示，电控产投成立于2008年10月30日，注册资本12亿元，股权结构上，北京电控持有50%的股权、京东方持有33.3%股权、电子城持有16.7%股权。

值得注意的是，当前北方华创持续扩大业务布局。今年3月31日，北方华创公告，受让沈阳中科天盛自动化技术有限公司（下称“中科天盛”）持有的芯源微股份1690万股，占芯源微总股本的8.41%。更早前的3月10日，北方华创与沈阳先进制造技术产业有限公司（下称“先进制造”）签署了股份转让协议，北方华创拟受让先进制造持有的芯源微9.49%股份，合计1906.49万股，交易金额为16.87亿元。

受益于半导体行业回暖，北方华创业绩亮眼。2024年，北方华创实现营业收入298.38亿元，同比增长35.14%；归属于上市公司股东的净利润为56.21亿元，同比增长44.17%。该公司还发布了2025年一季度业绩预告显示，预计实现营收73.4亿元至89.8亿元，同比增长23.35%-50.91%；预计实现归母净利润14.2亿元至17.4亿元，同比增长24.69%-52.79%。

北方华创表示，2024年公司深耕半导体基础产品领域，经营业绩稳定增长。公司集成电路装备领域多款新产品取得突破，工艺覆盖度及市场占有率显著增长，产品销量同比大幅度增加。今年一季度，公司集成电路装备领域电容耦合等离子体刻蚀设备（CCP）、原子层沉积设备（ALD）、高端单片清洗机等多款新产品实现关键技术突破，工艺覆盖度显著增长，同时多款成熟产品市场占有率稳步提升。凭借优良的产品、技术和服务优势，公司市场份额持续扩大，营业收入同比提升。

中国半导体设备国产化进程飙升

据SEMI数据，中国作为全球最大的半导体消费市场，强劲的市场需求为半导体设备产业的发展提供了强大动力。近年来，国内半导体设备企业在技术突破和国产替代方面持续发力并取得显著进展。以北方华创、中微公司、盛美上海等为代表的设备公司，在技术研发和市场拓展上成果斐然，逐步成为市场竞争中的重要力量。截至2024年，中国半导体设备国产化率提升至13.6%，在刻蚀、清洗、去胶和CMP设备市场，国产化率已突破双位数。尽管光刻设备与国际先进水平仍存在差距，但也取得了部分突破。

全球前五大半导体设备厂商均专注于前道设备应用，分别是应用材料、ASML、东京电子、Lam Research和科磊（KLA）。其中，应用材料、东京电子、泛林半导体是平台型企业，业务横跨刻蚀、薄膜、清洗、离子注入等多个领域，而ASML和KLA属于细分领域龙头。从行业发展趋势来看，向平台型企业发展是进入全球设备第一梯队的关键路径。

由上表可知，在中国大陆，我国目前在发展平台型设备厂商方面卓有成效的主要有北方华创、中微公司、盛美上海和万业企业，而在各细分领域也出现了诸如拓荆科技、芯源微、华海清科、长川科技（维权）、精测电子、中科飞测等代表性企业。

我国设备平台型企业发展情况各有不同，北方华创发展较早，已形成规模，是国内唯一成型的平台型设备企业；中微公司和盛美上海处于加速成长阶段，具备一定规模；万业企业虽处于发展初期，但明确朝着“平台型”企业的目标迈进。从企业发展体量来看，自2022年起，设备行业诞生了北方华创和晶盛机电两个百亿设备巨头。

据全球半导体观察综合中国半导体产业协会、企业财报、半导体行业咨询公司等行业各方消息可知，我国在去胶、清洗、刻蚀设备方面国产化率较高；在CMP、热处理、薄膜沉积领域，近几年国产化取得明显突破；然而在量测、涂胶显影、光刻、离子注入等设备领域，仍较为薄弱。

去胶设备领域来看，中国半导体国产化率在2023-2024年显著提升，尤其在成熟制程（28nm及以上，下同）和中低端市场已实现较高替代率。综合行业多方数据显示，在中低端市场，国产化率约75%-90%，主要覆盖成熟制程、功率半导体、先进封装等领域；而在高端市场上，在先进逻辑芯片（14nm以下，下同）和高端存储芯片（3DNAND/DRAM）中，国产化率仍低于30%，这部分主要依赖东京电子、LamResearch等国际厂商。目前，我国在去胶设备领域的代表企业主要有屹唐半导体、浙江宇谦、上海稷以、北方华创、盛美上海等，总体来看国产设备在“去胶+清洗”集成设备中占优。

清洗设备领域，我国国产化率已不断提高至50-60%，代表企业主要有北方华创、盛美上海、至纯科技、芯源微、屹唐半导体等。

在刻蚀设备领域，我国在成熟制程国产化率约为50%-60%，主要应用于逻辑芯片、功率半导体和存储芯片（如3DNAND）；而在先进制程，国产化率不足15%，高端市场被Lam Research、东京电子、应用材料等垄断。在该领域我国主要代表企业有中微公司、北方华创、嘉芯半导体、屹唐半导体等，另外拓荆科技、盛美上海、芯源微虽然没有专门推出转有的刻蚀设备，但其部分领域设备均有涉及刻蚀工艺。

在热处理设备领域，我国国产化率约为30%-40%，主要代表企业有北方华创、晶盛机电、中微公司、拓荆科技、嘉芯半导体等，另外华海清科、拓荆科技、芯源微部分领域设备均有涉及热处理工艺，占据一定市场份额。

PVD设备领域则是北方华创、捷佳伟创、嘉芯半导体、中电科、科睿设备有限公司、中科院沈阳科学仪器、合肥科晶材料、晶盛机电、中微公司、盛美上海、拓荆科技。该领域设备国产化率还处于较低水平，约为15%-20%，其中在先进制程领域，国产化率仅为10%左右，主要依赖进口。

半导体CMP设备领域，我国在成熟制程国产化率约15%-25%，主要应用于功率半导体、MEMS传感器等领域；而在先进制程上国产化率不足10%，高端市场由应用材料、荏原制作所等垄断。我国在该领域上的代表企业主要有盛美上海、华海清科、中国电科、鼎龙控股、烁科精微等。

涂胶显影设备是光刻工艺的核心设备之一，主要用于晶圆的光刻胶涂覆、显影等步骤。在该领域，我国国产化率约为10%-15%（主要集中在封装和成熟制程），前道设备国产化率不足10%。行业消息显示，涂胶显影设备的主要挑战在于设备稳定性、工艺精度（如均匀性控制）、与光刻机的协同适配方面。我国涂胶显影设备主要代表企业则是盛美上海、芯源微、北方华创、中微公司、华峰测控等。

在离子注入设备领域，我国在成熟制程上的国产化率约10%-20%，主要应用于功率半导体、MEMS传感器等非先进逻辑芯片领域；而在先进制程国产化率不足5%，市场由应用材料、Axcelis、日立国际电气主导。目前，国产设备在中高能量（>200keV）和超低能量（<1keV）离子注入领域仍落后，束流均匀性（±3%vs国际±1%）和稳定性待提升。而在晶圆尺寸适配上，12英寸设备成熟度低，8英寸设备逐步替代进口。此外在相关重要配件上如离子源、质量分析器等长期依赖进口。该领域我国主要代表企业为凯世通、中国电科、烁科中信科、北方华创、中微公司等。

半导体量测设备包括晶圆缺陷检测、关键尺寸测量（CD-SEM）、膜厚测量（椭偏仪）、套刻精度测量等，技术门槛极高。该领域整体国产化率约为10%-15%，我国主要在中低端设备和部分细分领域取得突破，其中前道高端设备（如EUV相关检测）国产化率不足5%。目前该领域的主要发展瓶颈在于核心光学部件（如高精度激光器）、算法软件（缺陷分类与数据分析）依赖进口，设备稳定性与海外巨头存在差距。在量测领域我国主要代表企业为上海微电子、中科飞测、精测电子、华海清科、北方华创等。

在半导体光刻设备前道制造（EUV/ArF浸没式）领域，国产化率约为0%-1％。而在成熟制程光刻机（KrF/i-line，90nm及以上），国产化率约10%-15%，主要用于功率半导体、MEMS、分立器件等领域。而在封装光刻机（后道先进封装），在上海微电子主导下，国产化率不断提升。在该领域我国的主要代表企业有上海微电子、中国电科、北方华创等。据悉，上海微电子计划推出支持55nm制程的KrF光刻机，并推进28nm光刻机量产验证。